Thiết bị phun phun siêu âm cho lớp phủ màng nano

Thiết bị phun phun siêu âm cho lớp phủ màng nano

 

1. Phun Nanofilm là gì?

Màng nano là các vật liệu-lớp mỏng có độ dày ở cấp độ nano, thường được sử dụng để cải thiện độ dẫn điện, tính chất quang học, khả năng thấm ướt bề mặt và các chức năng khác của chất nền. Các phương pháp chuẩn bị màng mỏng-truyền thống bao gồm phủ quay, phủ nhúng, phún xạ và lắng đọng lớp nguyên tử. Phun nguyên tử hóa siêu âm, thông qua quá trình nguyên tử hóa và lắng đọng chất lỏng, cung cấp tùy chọn cho việc chuẩn bị màng mỏng-dựa trên dung dịch-

2. Nguyên lý làm việc của thiết bị phun sơn phun siêu âm

Thiết bị phun sơn phun nguyên tử siêu âm chủ yếu bao gồm máy phát siêu âm, vòi phun nguyên tử, hệ thống cung cấp chất lỏng, hệ thống khí mang và nền tảng chuyển động. Quy trình làm việc cơ bản của nó như sau:

1. Dung dịch vật liệu nano hoặc dung dịch phủ được đưa đến vòi phun nguyên tử siêu âm.

2. Rung siêu âm làm cho chất lỏng tạo thành những giọt nhỏ.

3. Khí mang vận chuyển các giọt tới bề mặt chất nền.

4. Các giọt nước lan rộng, làm khô hoặc trải qua quá trình xử lý-sau trên bề mặt.

5. Một màng mỏng có độ dày mục tiêu được hình thành thông qua nhiều lần phun.

 

3. Ưu điểm của phương pháp phun nguyên tử hóa siêu âm cho màng nano

Nguyên tử hóa đồng nhất:Vòi phun nguyên tử hóa siêu âm tạo ra các giọt nhỏ thông qua rung động tần số-cao, giúp cải thiện tính đồng nhất của quá trình lắng đọng lớp phủ. Kích thước giọt, khoảng cách phun, tốc độ cung cấp chất lỏng và tình trạng bề mặt đều ảnh hưởng đến chất lượng màng cuối cùng.

Kiểm soát chính xác độ dày màng:Độ dày màng có thể được kiểm soát chính xác bằng cách điều chỉnh số lần phun, tốc độ cung cấp chất lỏng, tốc độ di chuyển của vòi phun và nồng độ dung dịch.

Cải thiện việc sử dụng vật liệu:Phun siêu âm thường sử dụng phương pháp phun sương-tốc độ thấp và phương pháp phun nhẹ nhàng hơn, giảm hiện tượng bắn tung tóe và phun quá nhiều, do đó giúp giảm lãng phí vật liệu. Việc sử dụng vật liệu thực tế vẫn phụ thuộc vào hệ thống phun, kích thước bề mặt, tính chất dung dịch và phương pháp thu hồi.

Thích hợp cho việc chuẩn bị phim{0}}khu vực rộng lớn:Có thể kết hợp phun phun nguyên tử hóa siêu âm với các nền tảng chuyển động tự động để đạt được-lớp phủ diện tích lớn trên các bề mặt phẳng.

4. Ứng dụng phun nguyên tử hóa siêu âm cho màng nano

Phim dẫn điện trong suốt:Phun siêu âm có thể được sử dụng để nghiên cứu các màng polyme dẫn điện như PEDOT:PSS, và phù hợp để phát triển các lớp dẫn điện trong suốt và vật liệu điện tử hữu cơ.

Vật liệu bán dẫn và điện tử:Nó có thể được sử dụng để nghiên cứu lớp phủ chức năng trên bề mặt wafer silicon, lớp phủ quang học và màng mỏng điện tử hữu cơ.

Phim chức năng quang học:Các vật liệu như nano{0}}silica có thể được sử dụng để chuẩn bị màng màu cấu trúc và các lớp phủ chức năng quang học khác.

Lớp phủ kỵ nước và kỵ nước:Phun siêu âm có thể được sử dụng để chuẩn bị các màng chức năng ưa nước, kỵ nước và bề mặt khác; tính chất cụ thể phụ thuộc vào vật liệu phủ và quá trình xử lý bề mặt.

Vật liệu năng lượng mới:Nó có thể được sử dụng để nghiên cứu và xử lý các lớp chức năng trong pin mặt trời{0}}màng mỏng và các lớp phủ vật liệu năng lượng mới khác.

5. RPS-Thiết bị phủ nguyên tử siêu âm SONIC

RPS-Thiết bị phủ nguyên tử hóa siêu âm SONIC phù hợp cho các ứng dụng như lớp phủ vật liệu nano, màng mỏng chức năng, vật liệu điện tử và lớp phủ bề mặt chính xác. Thiết bị có thể được tùy chỉnh theo đặc tính vật liệu, kích thước bề mặt, diện tích lớp phủ và yêu cầu sản xuất của khách hàng.

Nguyên tử hóa siêu âm có độ chính xác cao-: Sử dụng công nghệ phun sương siêu âm tần số cao{0}}để giúp đạt được khả năng phun giọt ổn định và đồng đều.

Lớp phủ màng mỏng đồng nhất:Thích hợp để chuẩn bị màng mỏng đồng nhất thông qua việc kiểm soát các thông số quy trình như cung cấp chất lỏng, tốc độ phun và thời gian phun.

Giải pháp sơn tùy chỉnh:Các giải pháp phủ siêu âm phù hợp có thể được thiết kế theo đặc tính vật liệu, kích thước bề mặt, diện tích phủ và yêu cầu sản xuất của khách hàng.