Vòi phun siêu âm phủ chất quang học như thế nào?

Công nghệ phun sơn siêu âm là một công nghệ mới hiện đang đóng một vai trò quan trọng trong các ngành công nghiệp khác nhau. Hiện nay, số lượng lớn khách hàng lựa chọn vòi phun siêu âm để phủ. So với phun hai{2} chất lỏng truyền thống, phun siêu âm mang lại những lợi thế đáng kể về chất lượng lớp phủ, khả năng sử dụng vật liệu và khả năng tương thích của quy trình.

 

Công ty chúng tôi cung cấp dịch vụ thử nghiệm mẫu miễn phí và ngày càng có nhiều khách hàng gửi mẫu cho chúng tôi để thử nghiệm. Thiết bị của chúng tôi đã nhận được những đánh giá tích cực và sự công nhận từ khách hàng.

 

Hôm nay, chúng ta sẽ thảo luận về phun quang điện siêu âm, một loại phun vật liệu tương đối phổ biến.

 

Photoresist là một vật liệu màng mỏng nhạy cảm với ánh sáng hoặc bức xạ và chủ yếu được sử dụng để tạo khuôn tốt trong các lĩnh vực như mạch tích hợp và bảng hiển thị. Nó đóng vai trò là lớp phủ chống ăn mòn-trong quy trình quang khắc. Độ hòa tan của nó thay đổi khi tiếp xúc với ánh sáng, tạo thành dạng mạch mong muốn. Chất cản quang được phân loại thành tông-dương (hòa tan các vùng phơi sáng) và tông-âm (hòa tan các vùng không phơi sáng). Tùy thuộc vào nguồn sáng tiếp xúc, chúng được phân loại thành tia cực tím, tia cực tím sâu, tia cực tím cực mạnh và khả năng cản tia điện tử.

Cốt lõi của công nghệ phun nguyên tử hóa chất cảm quang siêu âm là sử dụng năng lượng rung siêu âm để đạt được quá trình nguyên tử hóa chất cảm quang hiệu quả và đồng đều. Sau đó, khả năng kiểm soát luồng không khí chính xác sẽ đưa các giọt nguyên tử đến bề mặt chất nền, tạo thành lớp phủ-chất lượng cao. Quá trình này có thể được chia thành ba giai đoạn chính:

 

 

1. Nguyên tử hóa chất quang điện: Rung động tần số-cao phá vỡ sức căng bề mặt của chất lỏng.

Thành phần cốt lõi của công nghệ phun siêu âm là vòi phun siêu âm, chứa máy rung gốm áp điện. Khi tín hiệu điện-tần số cao được đưa vào bộ rung, nó sẽ tạo ra các rung động cơ học ở cùng tần số, truyền năng lượng rung động đến bề mặt phun nguyên tử của vòi phun. Sau khi chất quang dẫn được đưa đến bề mặt nguyên tử hóa thông qua hệ thống cung cấp chất lỏng, các dao động tần số- cao nhanh chóng phá vỡ sức căng bề mặt của chất lỏng, tạo thành các giọt có kích thước micron-có đường kính đồng đều (thường là 5μm-50μm).

So với quá trình nguyên tử hóa áp suất truyền thống (dựa vào luồng khí-áp suất cao để phá vỡ chất lỏng), quá trình nguyên tử hóa siêu âm giúp loại bỏ nhu cầu can thiệp vào luồng khí-áp suất cao, dẫn đến sự phân bố kích thước giọt đồng đều hơn (trong phạm vi ±10%). Nó cũng tránh các giọt nước bắn tung tóe hoặc làm xáo trộn bề mặt chất nền do tác động của luồng không khí.

 

2. Kiểm soát chính xác đường truyền

Công ty chúng tôi có các kỹ sư lập trình chuyên nghiệp có thể lập trình độc lập đường dẫn phun nguyên tử hóa. Chúng tôi cũng có thể tùy chỉnh các đường phun khác nhau theo yêu cầu của khách hàng. Chúng tôi có kinh nghiệm trưởng thành trong việc sản xuất máy móc hoàn chỉnh. Đối với mỗi thiết bị, chúng tôi lập trình nó cho khách hàng. Trên màn hình, khách hàng nhìn thấy-đường dẫn phun theo thời gian thực. Ngoài việc lựa chọn đường dẫn, chúng tôi cũng cần điều chỉnh tốc độ luồng không khí (để kiểm soát khoảng cách truyền, thường là 5-50mm) và vị trí tương đối của vòi phun và chất nền (sử dụng cánh tay robot hoặc giai đoạn dịch chuyển để định vị ba chiều), chúng tôi đảm bảo rằng các hạt nguyên tử tiếp cận bề mặt chất nền theo chiều dọc và đồng đều, tránh độ dày lớp phủ không đồng đều do nhiễu loạn luồng không khí gây ra.

3. Hình thành màng phủ: Bảo dưỡng ở nhiệt độ-thấp đảm bảo tính toàn vẹn của cấu trúc

Sau khi các giọt nguyên tử lắng đọng trên bề mặt chất nền, chúng trải qua quá trình xử lý ở nhiệt độ-thấp (thường là 60 độ -120 độ, thấp hơn nhiều so với nhiệt độ xử lý ở nhiệt độ-cao của lớp phủ quay truyền thống) để tạo thành một màng. Quá trình xử lý ở nhiệt độ thấp không chỉ ngăn ngừa sự biến dạng của chất nền hoặc sự xuống cấp của vật liệu do nhiệt độ cao mà còn làm giảm sự tích tụ ứng suất trong chất quang dẫn, cải thiện độ bám dính và tính toàn vẹn cấu trúc của lớp phủ, tạo nền tảng tốt cho các quá trình quang khắc tiếp theo.